설명
Implanter (Spare Parts)환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
The Varian 350D is a medium current ion implanter that is capable of implanting Boron (B11 or BF2) or Phosphorous (P31) in 4” or 6” wafers with doses of 1E12 to 5E15. Implant energy levels can be adjusted from 10KeV and 200 KeV1. It is set up for 100mm and 150mm round substrates. It has applications in power devices, memory, logic, analog, discrete and MEMS.문서
문서 없음
APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
350D
검증됨
카테고리
Medium Current
마지막 검증일: 9일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
117120
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
350D
카테고리
Medium Current
마지막 검증일: 9일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
117120
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
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Implanter (Spare Parts)환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
The Varian 350D is a medium current ion implanter that is capable of implanting Boron (B11 or BF2) or Phosphorous (P31) in 4” or 6” wafers with doses of 1E12 to 5E15. Implant energy levels can be adjusted from 10KeV and 200 KeV1. It is set up for 100mm and 150mm round substrates. It has applications in power devices, memory, logic, analog, discrete and MEMS.문서
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