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MP100

카테고리
Wet processing
개요

Base and precious metals plating Copper flash plate, panel plate, pattern plate Developing, etching, stripping Chemical cleaning Repeatable performance with high Cpk Thickness uniformity to +/-5% Current density to 10ASD Homogeneous plating with no layer separation Eliminates plating voids and pits resulting from trapped gases

활성 등재물

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서비스

검사, 보험, 감정, 물류

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