설명
Dry etch system환경 설정
Known issues: Not included: (Qty 2) LPT Dry Pump VHP Robot Handler Process: METAL ETCHER Software Version: E4.7_25OEM 모델 설명
In September 1992, AMAT announced the Centura Poly, a single-wafer, multichamber platform targeted at the high-temperature thin film deposition of polysilicon on wafers up to 200mm (8 inch) in diameter.문서
문서 없음
카테고리
ALD
마지막 검증일: 6일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
154782
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA POLY
카테고리
ALD
마지막 검증일: 6일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
154782
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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Dry etch system환경 설정
Known issues: Not included: (Qty 2) LPT Dry Pump VHP Robot Handler Process: METAL ETCHER Software Version: E4.7_25OEM 모델 설명
In September 1992, AMAT announced the Centura Poly, a single-wafer, multichamber platform targeted at the high-temperature thin film deposition of polysilicon on wafers up to 200mm (8 inch) in diameter.문서
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