
설명
Chemical Mechanical Polishing Machine AMAT MIRRA 3400 CMP and OnTrak Clean provide chemical mechanical polishing and wafer cleaning for semiconductor manufacturing.환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음
카테고리
CMP
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
114234
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
1999
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
모두 보기APPLIED MATERIALS (AMAT)
MIRRA 3400
카테고리
CMP
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
114234
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
1999
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
설명
Chemical Mechanical Polishing Machine AMAT MIRRA 3400 CMP and OnTrak Clean provide chemical mechanical polishing and wafer cleaning for semiconductor manufacturing.환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음