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Chemical Mechanical Polishing Machine AMAT MIRRA 3400 CMP and OnTrak Clean provide chemical mechanical polishing and wafer cleaning for semiconductor manufacturing.환경 설정
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문서 없음
APPLIED MATERIALS (AMAT)
MIRRA 3400
검증됨
카테고리
CMP
마지막 검증일: 30일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
114234
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
1999
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
MIRRA 3400
카테고리
CMP
마지막 검증일: 30일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
114234
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
1999
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Chemical Mechanical Polishing Machine AMAT MIRRA 3400 CMP and OnTrak Clean provide chemical mechanical polishing and wafer cleaning for semiconductor manufacturing.환경 설정
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