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환경 설정 없음OEM 모델 설명
Novellus introduced the Concept Two-Dual ALTUS tungsten deposition system in 1994. The Dual ALTUS is designed with a dual-chamber configuration that delivers the throughput power to dramatically lower the cost of tungsten deposition. It is considered the best solution in the industry for very high volume 200mm wafer fabs producing state-of-the-art 0.35um semiconductor devices.문서
문서 없음
카테고리
CVD
마지막 검증일: 30일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
136416
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
LAM RESEARCH / NOVELLUS
CONCEPT TWO "C2" DUAL ALTUS
카테고리
CVD
마지막 검증일: 30일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
136416
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
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Available
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Novellus introduced the Concept Two-Dual ALTUS tungsten deposition system in 1994. The Dual ALTUS is designed with a dual-chamber configuration that delivers the throughput power to dramatically lower the cost of tungsten deposition. It is considered the best solution in the industry for very high volume 200mm wafer fabs producing state-of-the-art 0.35um semiconductor devices.문서
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