설명
Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.문서
문서 없음
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA AP ISPRINT
검증됨
카테고리
Deposition
마지막 검증일: 17일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
113702
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
알 수 없음
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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CENTURA AP ISPRINT
카테고리
Deposition
마지막 검증일: 17일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
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113702
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Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.문서
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