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APPLIED MATERIALS (AMAT) CENTURA AP ISPRINT
    설명
    VIA W
    환경 설정
    VIA W
    OEM 모델 설명
    Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.
    문서

    문서 없음

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

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    검증됨

    카테고리
    Deposition

    마지막 검증일: 60일 이상 전

    주요 품목 세부 정보
    조건:

    Used

    작동 상태:

    알 수 없음

    제품 ID:

    91266

    웨이퍼 사이즈:

    12"/300mm

    빈티지:

    2006

    Logistics Support
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    유사 등재물
    모두 보기
    APPLIED MATERIALS (AMAT) CENTURA AP ISPRINT

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

    Deposition
    빈티지: 2006조건: 중고
    마지막 검증일60일 이상 전

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

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    검증됨
    카테고리
    Deposition
    마지막 검증일: 60일 이상 전
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    주요 품목 세부 정보
    조건:

    Used

    작동 상태:

    알 수 없음

    제품 ID:

    91266

    웨이퍼 사이즈:

    12"/300mm

    빈티지:

    2006

    Logistics Support
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    설명
    VIA W
    환경 설정
    VIA W
    OEM 모델 설명
    Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.
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    APPLIED MATERIALS (AMAT) CENTURA AP ISPRINT

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

    Deposition빈티지: 2006조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전