설명
Mainframe: 300mm환경 설정
300mm DPS Metal chamber with 200mm ESCOEM 모델 설명
The CENTURA AP DPS II delivers high-productivity silicon, metal, and dielectric etch. Etching is one of the most critical yet challenging of semiconductor production operations. Metal Etch문서
문서 없음
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
122819
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA AP DPS II
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
122819
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
설명
Mainframe: 300mm환경 설정
300mm DPS Metal chamber with 200mm ESCOEM 모델 설명
The CENTURA AP DPS II delivers high-productivity silicon, metal, and dielectric etch. Etching is one of the most critical yet challenging of semiconductor production operations. Metal Etch문서
문서 없음