설명
AMAT CENTURA DPSM+환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
Two new etch systems were launched in 1996 for HDP etching of metal and silicon films, using AMAT's DPS (Decoupled Plasma Source) technology. The DPS Metal Etch Centura and DPS Silicon Etch Centura are aimed at very advanced applications, primarily for deep submicron devices (0.25-micron).문서
문서 없음
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 2일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Refurbished
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
148235
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 2일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Refurbished
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
148235
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
설명
AMAT CENTURA DPSM+환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
Two new etch systems were launched in 1996 for HDP etching of metal and silicon films, using AMAT's DPS (Decoupled Plasma Source) technology. The DPS Metal Etch Centura and DPS Silicon Etch Centura are aimed at very advanced applications, primarily for deep submicron devices (0.25-micron).문서
문서 없음