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For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.문서
문서 없음
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 17일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
144838
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2016
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
모두 보기APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS II
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 17일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
144838
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2016
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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ADV_G2환경 설정
EM_ClnOEM 모델 설명
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.문서
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