설명
설명 없음환경 설정
Type: 300mm M712 mainframe M711 setup one Etch chamber Software revision: 1.07 PMv.02.16M Etcher, 12" (3) Cassettes Positions SECS II Interface: HSMS Neslab coolflow III Chiller Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz Mainframe: Robot P/N: CR-712V HITACHI 3 position Loader Chamber: ESC Type: Bipolar Endpoint type: Hitachi EPD monitor ePMv02.16M SHIMAZU EC TMP 3203LMC-K1 EC TMP Controller DAIHEN ES7-IIA EC Source generator PEARL CF-500-400K EC Bias generator Gas configuration: Line / EC1 / Strip 1 / Ar 2 / C12 3 / SF6 4 / HBr 5 / CF3 6 / CH4 7 / NF3 8 / O2 9 / N2 10/ SF6 11/ C12 12/ O2OEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음
HITACHI
M 712
검증됨
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
65310
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2006
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
HITACHI
M 712
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
65310
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2006
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
설명
설명 없음환경 설정
Type: 300mm M712 mainframe M711 setup one Etch chamber Software revision: 1.07 PMv.02.16M Etcher, 12" (3) Cassettes Positions SECS II Interface: HSMS Neslab coolflow III Chiller Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz Mainframe: Robot P/N: CR-712V HITACHI 3 position Loader Chamber: ESC Type: Bipolar Endpoint type: Hitachi EPD monitor ePMv02.16M SHIMAZU EC TMP 3203LMC-K1 EC TMP Controller DAIHEN ES7-IIA EC Source generator PEARL CF-500-400K EC Bias generator Gas configuration: Line / EC1 / Strip 1 / Ar 2 / C12 3 / SF6 4 / HBr 5 / CF3 6 / CH4 7 / NF3 8 / O2 9 / N2 10/ SF6 11/ C12 12/ O2OEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음