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Reactive Ion EtcherOEM 모델 설명
The March Jupiter III is a parallel plate reactive ion etcher, which offers fast, uniform, and selective etching. The Jupiter III is typically used for wafer descumming and ashing. The maximum sample size is 6 inches. The system is equipped with a maximum 300W RF power supply. The available process gases are oxygen, argon, and forming gas which are adjustable using a rotameter.문서
문서 없음
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
100339
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
NORDSON / MARCH
Jupiter III
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
100339
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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Reactive Ion EtcherOEM 모델 설명
The March Jupiter III is a parallel plate reactive ion etcher, which offers fast, uniform, and selective etching. The Jupiter III is typically used for wafer descumming and ashing. The maximum sample size is 6 inches. The system is equipped with a maximum 300W RF power supply. The available process gases are oxygen, argon, and forming gas which are adjustable using a rotameter.문서
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