설명
Cobra 300 ICP+PECVD환경 설정
Cl₂ (Chlorine) N₂ (Nitrogen) CHF₃ (Trifluoromethane) N₂O (Nitrous Oxide) NH₃ (Ammonia) CF₄ (Carbon Tetrafluoride) SF₆ (Sulfur Hexafluoride) BCl₃ (Boron Trichloride) SiCl₄ (Silicon Tetrachloride) SiH₄/N₂ (Silane in Nitrogen, 5% mixture) Ar (Argon) H₂ (Hydrogen)OEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 16일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
137003
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
2021
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
OXFORD
PLASMAPRO 100 COBRA
카테고리
Dry / Plasma Etch
마지막 검증일: 16일 전
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조건:
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알 수 없음
제품 ID:
137003
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알 수 없음
빈티지:
2021
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Cl₂ (Chlorine) N₂ (Nitrogen) CHF₃ (Trifluoromethane) N₂O (Nitrous Oxide) NH₃ (Ammonia) CF₄ (Carbon Tetrafluoride) SF₆ (Sulfur Hexafluoride) BCl₃ (Boron Trichloride) SiCl₄ (Silicon Tetrachloride) SiH₄/N₂ (Silane in Nitrogen, 5% mixture) Ar (Argon) H₂ (Hydrogen)OEM 모델 설명
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