설명
Mainframe환경 설정
(Qty 4) Chambers Process: Anisotrop Procedure: CUBVOEM 모델 설명
The Applied Materials Centura HART Etch System is a 200mm multi-chamber semiconductor processing platform designed primarily for high-aspect-ratio trench (HART) etching.문서
문서 없음
카테고리
Etch/Asher
마지막 검증일: 18일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
148016
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA HART
카테고리
Etch/Asher
마지막 검증일: 18일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
148016
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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Mainframe환경 설정
(Qty 4) Chambers Process: Anisotrop Procedure: CUBVOEM 모델 설명
The Applied Materials Centura HART Etch System is a 200mm multi-chamber semiconductor processing platform designed primarily for high-aspect-ratio trench (HART) etching.문서
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