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4 Tubes (2 Atmospheric / 2 LPCVD) Tube 1 - (Atm) Diffusion growth of SiO2 films utilizing either ‘Thermal’ or ‘Wet’ oxidation (up to 1100C) Tube 2 - (Atm) Forming gas anneal (up to 800C) Tube 3 - LPCVD SiO2 deposition at lower temperatures (up to 800C) Tube 4 - LPCVD Si3N4 (up to 800C)OEM 모델 설명
Furnance문서
문서 없음
EXPERTECH
HTR
검증됨
카테고리
Furnaces / Diffusion
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
103682
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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