설명
I-Line Stepper환경 설정
8" ,Std TTL + RBA +Ahena + Single and multi Reticle podOEM 모델 설명
The PAS 5500/400 is specified at 0.30um Current i-Line resists are capable to resolve structures down to 0.30 and 0.28um imaging. The maximum MA of the PAS 5500/400 is 0.65. Together with the AERIAL Illuminator the /400 will provide enough process latitude for mass production at 0.30um, extendable down to 0.28 and 0.25um. The highest resolution of the /400 maximized the number of i-Line layers in a full device layer stack.문서
문서 없음
ASML
PAS 5500/400
검증됨
카테고리
I-Line
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
95039
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
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Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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PAS 5500/400
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I-Line
마지막 검증일: 60일 이상 전
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조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
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I-Line Stepper환경 설정
8" ,Std TTL + RBA +Ahena + Single and multi Reticle podOEM 모델 설명
The PAS 5500/400 is specified at 0.30um Current i-Line resists are capable to resolve structures down to 0.30 and 0.28um imaging. The maximum MA of the PAS 5500/400 is 0.65. Together with the AERIAL Illuminator the /400 will provide enough process latitude for mass production at 0.30um, extendable down to 0.28 and 0.25um. The highest resolution of the /400 maximized the number of i-Line layers in a full device layer stack.문서
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