설명
A PVD Cluster tool with two process chambers: 1. RMS Chamber with 5 targets (RF/DC capable) 2. iPVD chamber with 1 (Al) target (magnetron sputtering) Condition: In Working Condition Repairs required: Turbo Pump Mag-drive Maintenance required: Rough Pump환경 설정
Configured to handle standard 8-inch notched wafers (can handle smaller wafers mounted on 8-inch carrier)OEM 모델 설명
- Material evaluation due to co-sputter - Low initial costs on targets - COO - Flexible process configuration - Small footprint문서
SINGULUS / STANGL
ROTARIS
검증됨
카테고리
MOCVD
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
82129
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
알 수 없음
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Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
SINGULUS / STANGL
ROTARIS
카테고리
MOCVD
마지막 검증일: 60일 이상 전
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조건:
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제품 ID:
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웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
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