메인 콘텐츠로 건너뛰기
6" Fab For Sale from Moov - Click Here to Learn More
6" Fab For Sale from Moov - Click Here to Learn More
Moov logo

6" Fab For Sale from Moov - Click Here to Learn More
Moov Icon
KLA ARCHER AIM+
    설명
    설명 없음
    환경 설정
    환경 설정 없음
    OEM 모델 설명
    The Archer AIM+ is an advanced optical overlay metrology tool that sets the standard for lithography process control through the > 45-nm node. It improves yield and cost of ownership with a 20% increase in throughput over previous-generation solutions. It features field-proven AIM grating-style technology, improved optics design, and high accuracy measurements. Its applications include overlay metrology, CMP, lithography, and wafer surface focus and analysis.
    문서

    문서 없음

    KLA

    ARCHER AIM+

    verified-listing-icon

    검증됨

    카테고리
    Overlay

    마지막 검증일: 60일 이상 전

    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Refurbished


    작동 상태:

    알 수 없음


    제품 ID:

    63976


    웨이퍼 사이즈:

    알 수 없음


    빈티지:

    알 수 없음


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    유사 등재물
    모두 보기
    KLA ARCHER AIM+

    KLA

    ARCHER AIM+

    Overlay
    빈티지: 0조건: 중고
    마지막 검증일60일 이상 전

    KLA

    ARCHER AIM+

    verified-listing-icon
    검증됨
    카테고리
    Overlay
    마지막 검증일: 60일 이상 전
    listing-photo-108080b2309943e3b6a4aa3d92e961bb-https://d2pkkbyngq3xpw.cloudfront.net/moov_media/3.0-assets/photo-coming-soon-small.png
    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Refurbished


    작동 상태:

    알 수 없음


    제품 ID:

    63976


    웨이퍼 사이즈:

    알 수 없음


    빈티지:

    알 수 없음


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    설명
    설명 없음
    환경 설정
    환경 설정 없음
    OEM 모델 설명
    The Archer AIM+ is an advanced optical overlay metrology tool that sets the standard for lithography process control through the > 45-nm node. It improves yield and cost of ownership with a 20% increase in throughput over previous-generation solutions. It features field-proven AIM grating-style technology, improved optics design, and high accuracy measurements. Its applications include overlay metrology, CMP, lithography, and wafer surface focus and analysis.
    문서

    문서 없음

    유사 등재물
    모두 보기
    KLA ARCHER AIM+

    KLA

    ARCHER AIM+

    Overlay빈티지: 0조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전
    KLA ARCHER AIM+

    KLA

    ARCHER AIM+

    Overlay빈티지: 0조건: 개조됨마지막 검증일:60일 이상 전
    KLA ARCHER AIM+

    KLA

    ARCHER AIM+

    Overlay빈티지: 0조건: 개조됨마지막 검증일:60일 이상 전