설명

설명 없음

환경 설정

PECVD - Configured for deposition of SiO2, SixNy, Silicon, Oxynitride, and amorphous Silicon. All films are silane based

OEM 모델 설명

Low Temp PECVD

문서

문서 없음

BMR

HIDEP

검증됨

카테고리

PECVD

마지막 검증일: 9일 전

주요 품목 세부 정보

조건:

Used

작동 상태:

알 수 없음

제품 ID:

131482

웨이퍼 사이즈:

알 수 없음

빈티지:

2008

Logistics Support

Available

Transaction Insured by Moov

Available

Refurbishment Services

Available

유사 등재물

모두 보기

BMR

HIDEP

PECVD

빈티지: 2008조건: 중고

마지막 검증일9일 전

BMR

HIDEP

PECVD

빈티지: 2006조건: 중고

마지막 검증일60일 이상 전

BMR

HIDEP

PECVD

빈티지: 2006조건: 중고

마지막 검증일60일 이상 전

BMR

HIDEP

PECVD

빈티지: 2006조건: 중고

마지막 검증일60일 이상 전

BMR

HIDEP

검증됨

카테고리

PECVD

마지막 검증일: 9일 전

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주요 품목 세부 정보

조건:

Used

작동 상태:

알 수 없음

제품 ID:

131482

웨이퍼 사이즈:

알 수 없음

빈티지:

2008

Logistics Support

Available

Transaction Insured by Moov

Available

Refurbishment Services

Available

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PECVD - Configured for deposition of SiO2, SixNy, Silicon, Oxynitride, and amorphous Silicon. All films are silane based

OEM 모델 설명

Low Temp PECVD

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BMR

HIDEP

PECVD빈티지: 2008조건: 중고마지막 검증일:9일 전

BMR

HIDEP

PECVD빈티지: 2006조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전

BMR

HIDEP

PECVD빈티지: 2006조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전

BMR

HIDEP

PECVD빈티지: 2006조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전