설명
Stepper환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
Resolution: ≦ 2.4 µm (isolated pattern), ≦ 3 µm (L/S) Projection magnification: 1:1.25 Exposure field: 120 mm square to 98.78 (H) × 138 (V) mm (≦ ø169.71 mm) Reticle size: 6-in. (0.25-in. thickness) Maximum plate size: 550 × 650 mm Overlay: ≦ 0.5 µm (EGA, |M| + 3σ)문서
문서 없음
NIKON
FX-601F
검증됨
카테고리
Photolithography
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
61726
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
1999
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
NIKON
FX-601F
카테고리
Photolithography
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61726
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Resolution: ≦ 2.4 µm (isolated pattern), ≦ 3 µm (L/S) Projection magnification: 1:1.25 Exposure field: 120 mm square to 98.78 (H) × 138 (V) mm (≦ ø169.71 mm) Reticle size: 6-in. (0.25-in. thickness) Maximum plate size: 550 × 650 mm Overlay: ≦ 0.5 µm (EGA, |M| + 3σ)문서
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