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HITACHI M 712

설명

설명 없음

환경 설정

Type: 300mm M712 mainframe M711 setup one Etch chamber Software revision: 1.07 PMv.02.16M Etcher, 12" (3) Cassettes Positions SECS II Interface: HSMS Neslab coolflow III Chiller Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz Mainframe: Robot P/N: CR-712V HITACHI 3 position Loader Chamber: ESC Type: Bipolar Endpoint type: Hitachi EPD monitor ePMv02.16M SHIMAZU EC TMP 3203LMC-K1 EC TMP Controller DAIHEN ES7-IIA EC Source generator PEARL CF-500-400K EC Bias generator Gas configuration: Line / EC1 / Strip 1 / Ar 2 / C12 3 / SF6 4 / HBr 5 / CF3 6 / CH4 7 / NF3 8 / O2 9 / N2 10/ SF6 11/ C12 12/ O2

OEM 모델 설명

미제공

문서

문서 없음

HITACHI

M 712

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검증됨

카테고리

Plasma Etch

마지막 검증일: 60일 이상 전

주요 품목 세부 정보

조건:

Used

작동 상태:

알 수 없음

제품 ID:

65310

웨이퍼 사이즈:

12"/300mm

빈티지:

2006

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Logistics Support

Available

Money Back Guarantee

Available

Transaction Insured by Moov

Available

Refurbishment Services

Available

유사 등재물

HITACHI M 712

HITACHI

M 712

빈티지: 2006조건: 중고

마지막 검증일60일 이상 전

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M 712

빈티지: 0조건: 중고

마지막 검증일60일 이상 전

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주요 품목 세부 정보

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Used

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알 수 없음

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65310

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12"/300mm

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Type: 300mm M712 mainframe M711 setup one Etch chamber Software revision: 1.07 PMv.02.16M Etcher, 12" (3) Cassettes Positions SECS II Interface: HSMS Neslab coolflow III Chiller Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz Mainframe: Robot P/N: CR-712V HITACHI 3 position Loader Chamber: ESC Type: Bipolar Endpoint type: Hitachi EPD monitor ePMv02.16M SHIMAZU EC TMP 3203LMC-K1 EC TMP Controller DAIHEN ES7-IIA EC Source generator PEARL CF-500-400K EC Bias generator Gas configuration: Line / EC1 / Strip 1 / Ar 2 / C12 3 / SF6 4 / HBr 5 / CF3 6 / CH4 7 / NF3 8 / O2 9 / N2 10/ SF6 11/ C12 12/ O2

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Plasma Etch빈티지: 0조건: 중고마지막 검증일: 60일 이상 전