설명
Light Etch환경 설정
EFEM, 2x twin PM, AC rack, UPS, TMOEM 모델 설명
paradigmE XP series products have excellent etch selectivity and low plasma damage for on-wafer devices, and are widely used for film etching in semiconductor front-end and back-end manufacturing.문서
문서 없음
MATTSON
paradigmE XP
검증됨
카테고리
Plasma Etch
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
95265
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2010
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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모두 보기MATTSON
paradigmE XP
카테고리
Plasma Etch
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
95265
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2010
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Available
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EFEM, 2x twin PM, AC rack, UPS, TMOEM 모델 설명
paradigmE XP series products have excellent etch selectivity and low plasma damage for on-wafer devices, and are widely used for film etching in semiconductor front-end and back-end manufacturing.문서
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