설명
설명 없음환경 설정
Varian 3190 retrofitted to 3290 with mini quantum mag sources Currently configured for 100mm wafers 3 Target mini-quantums RF Etch VIPS (Vacuum Isolated Processing Station) Residual Gas Analyzer Description: Single Wafer Vertical Sputter System Vacuum System: Cryo Pumped Load Lock Included: Yes Number of RF Etch Cathodes: 1 Substrate Heaters: Yes Residual Gas AnalyzerL: Yes DC Power Supply Output Power 12.00 kW DC RF Generator Rated Power Output 1000 Watts Matching Network: Yes Power Requirements: 480 V 22.0 A 60 Hz 3 PhaseOEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음
카테고리
PVD / Sputtering
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
113066
웨이퍼 사이즈:
4"/100mm
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
모두 보기
NOVELLUS / VARIAN
3190
카테고리
PVD / Sputtering
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
113066
웨이퍼 사이즈:
4"/100mm
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
설명
설명 없음환경 설정
Varian 3190 retrofitted to 3290 with mini quantum mag sources Currently configured for 100mm wafers 3 Target mini-quantums RF Etch VIPS (Vacuum Isolated Processing Station) Residual Gas Analyzer Description: Single Wafer Vertical Sputter System Vacuum System: Cryo Pumped Load Lock Included: Yes Number of RF Etch Cathodes: 1 Substrate Heaters: Yes Residual Gas AnalyzerL: Yes DC Power Supply Output Power 12.00 kW DC RF Generator Rated Power Output 1000 Watts Matching Network: Yes Power Requirements: 480 V 22.0 A 60 Hz 3 PhaseOEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음