메인 콘텐츠로 건너뛰기

CENTURA AP ISPRINT

카테고리
CVD (Metalization)
개요

Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.

활성 등재물

2

서비스

검사, 보험, 감정, 물류

상위 등재물

이런 제품이 있으신가요?
Moov에 등재하고 즉시 완벽한 구매자를 찾으십시오.