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설명
Rapid Thermal Processing System for 3 Applications: Implant Activation, Silicide Formation, Oxide Reflow (PSG & BPSG), Alloying Cassette to Cassette Handling of 3”-5” Wafers Microprocessor-controlled 60-100 Wafers per Hour Throughput, Depending on Anneal Cycle 400-1150ºC Steady-State Temperature Range 1-300 Seconds Anneal Time Controlled Ambient for up to 4 Gases환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음
카테고리
RTP/RTA
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
16249
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
MATTSON / STEAG / AST
HEATPULSE 2101
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Rapid Thermal Processing System for 3 Applications: Implant Activation, Silicide Formation, Oxide Reflow (PSG & BPSG), Alloying Cassette to Cassette Handling of 3”-5” Wafers Microprocessor-controlled 60-100 Wafers per Hour Throughput, Depending on Anneal Cycle 400-1150ºC Steady-State Temperature Range 1-300 Seconds Anneal Time Controlled Ambient for up to 4 Gases환경 설정
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