설명
Single Chamber RTP Rapid Thermal Annealing Oxide & Nitride Film Deposition Cassette to Cassette Handling of 4”-6” Wafers 2 Axis Robot for Transporting Wafers to Heating Chamber 400°C to 1300°C Temperature Range Programmable 0-600 sec Steady State Process Time 120 Wafers/Hour Null Cycle (Zero Processing Time) Wafer Cooldown Stage Full Range Dual Pyrometer SECS Communications환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
미제공문서
문서 없음
MATTSON / STEAG / AST
HEATPULSE 2146
검증됨
카테고리
RTP/RTA
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
15979
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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