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환경 설정 없음OEM 모델 설명
"This i-line stepper from Nikon is one of our most popular lithography systems. Resolution ≦ 350 nm, exposure light source i-line (365 nm wavelength), reduction ratio 1:5, exposure field 22mm square to 17.9 (H) × 25.2 (V) mm (6-inch reticle), 20.0 × 20.4 mm (5-inch reticle), alignment accuracy (EGA, |M| + 3σ) ≦ 55 nm. The NIKON NSR 2205 i12D is a Steppers and Scanners system. The NSR 2205 i12D can be used with 8” wafer sizes.문서
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NIKON
NSR-2205i12D
검증됨
카테고리
I-Line
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
58113
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
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Logistics Support
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Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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NIKON
NSR-2205i12D
검증됨
카테고리
I-Line
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
58113
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
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Available
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Available
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환경 설정 없음OEM 모델 설명
"This i-line stepper from Nikon is one of our most popular lithography systems. Resolution ≦ 350 nm, exposure light source i-line (365 nm wavelength), reduction ratio 1:5, exposure field 22mm square to 17.9 (H) × 25.2 (V) mm (6-inch reticle), 20.0 × 20.4 mm (5-inch reticle), alignment accuracy (EGA, |M| + 3σ) ≦ 55 nm. The NIKON NSR 2205 i12D is a Steppers and Scanners system. The NSR 2205 i12D can be used with 8” wafer sizes.문서
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