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Process: Wet Chemistry Etching 1 Basins HCl acid (T ≤ 100°C) Automatic robot handling HCL, Isopropanol and deionized water 1 QDR basins / “DIS Dryer” 2/3 I/O Carrier ports 3 Loadports IN + 3 Loadports OUT. Total 6. Automatic robot handlingOEM 모델 설명
High Throughput Batch Cleaning Systems Enable Flexible Line Configurations: WS-820C is for 200 mm wafers with carrier transfer processing.문서
문서 없음
카테고리
Wet Benches - Auto
마지막 검증일: 18일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
137931
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
2019
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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SCREEN / DNS / DAINIPPON SCREEN
WS-820C
카테고리
Wet Benches - Auto
마지막 검증일: 18일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
137931
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
2019
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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설명 없음환경 설정
Process: Wet Chemistry Etching 1 Basins HCl acid (T ≤ 100°C) Automatic robot handling HCL, Isopropanol and deionized water 1 QDR basins / “DIS Dryer” 2/3 I/O Carrier ports 3 Loadports IN + 3 Loadports OUT. Total 6. Automatic robot handlingOEM 모델 설명
High Throughput Batch Cleaning Systems Enable Flexible Line Configurations: WS-820C is for 200 mm wafers with carrier transfer processing.문서
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