설명
Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
Triase+™ Ti/TiN is a 300mm single-wafer metal CVD system for high step coverage Ti/TiN film formation using TiCl4.문서
문서 없음
카테고리
Deposition
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
23689
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2014
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
TEL / TOKYO ELECTRON
TRIASe+ Ti/TiN
카테고리
Deposition
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
23689
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2014
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Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)환경 설정
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Triase+™ Ti/TiN is a 300mm single-wafer metal CVD system for high step coverage Ti/TiN film formation using TiCl4.문서
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