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MATTSON ASPEN III
    설명
    Asher(2 chamber)
    환경 설정
    환경 설정 없음
    OEM 모델 설명
    The Aspen III’s exceptional platform design can handle both 200 mm and 300 mm wafers, and supports special wafer handling including warped and translucent wafers. The unique process chamber architecture can accommodate technical requirements across multiple technology nodes for the most demanding device manufacturers in the industry.
    문서

    문서 없음

    카테고리
    Dry / Plasma Etch

    마지막 검증일: 60일 이상 전

    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Used


    작동 상태:

    알 수 없음


    제품 ID:

    118490


    웨이퍼 사이즈:

    알 수 없음


    빈티지:

    알 수 없음


    Logistics Support
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    유사 등재물
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    MATTSON

    ASPEN III

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    검증됨
    카테고리
    Dry / Plasma Etch
    마지막 검증일: 60일 이상 전
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    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Used


    작동 상태:

    알 수 없음


    제품 ID:

    118490


    웨이퍼 사이즈:

    알 수 없음


    빈티지:

    알 수 없음


    Logistics Support
    Available
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    Available
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    설명
    Asher(2 chamber)
    환경 설정
    환경 설정 없음
    OEM 모델 설명
    The Aspen III’s exceptional platform design can handle both 200 mm and 300 mm wafers, and supports special wafer handling including warped and translucent wafers. The unique process chamber architecture can accommodate technical requirements across multiple technology nodes for the most demanding device manufacturers in the industry.
    문서

    문서 없음

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