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MATTSON ASPEN III
    설명
    Asher
    환경 설정
    환경 설정 없음
    OEM 모델 설명
    The Aspen III’s exceptional platform design can handle both 200 mm and 300 mm wafers, and supports special wafer handling including warped and translucent wafers. The unique process chamber architecture can accommodate technical requirements across multiple technology nodes for the most demanding device manufacturers in the industry.
    문서

    문서 없음

    MATTSON

    ASPEN III

    verified-listing-icon

    검증됨

    카테고리
    Dry / Plasma Etch

    마지막 검증일: 60일 이상 전

    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Used


    작동 상태:

    알 수 없음


    제품 ID:

    78894


    웨이퍼 사이즈:

    12"/300mm


    빈티지:

    알 수 없음


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    유사 등재물
    모두 보기
    MATTSON ASPEN III

    MATTSON

    ASPEN III

    Dry / Plasma Etch
    빈티지: 2006조건: 개조됨
    마지막 검증일30일 이상 전

    MATTSON

    ASPEN III

    verified-listing-icon
    검증됨
    카테고리
    Dry / Plasma Etch
    마지막 검증일: 60일 이상 전
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    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Used


    작동 상태:

    알 수 없음


    제품 ID:

    78894


    웨이퍼 사이즈:

    12"/300mm


    빈티지:

    알 수 없음


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    Available
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    Available
    설명
    Asher
    환경 설정
    환경 설정 없음
    OEM 모델 설명
    The Aspen III’s exceptional platform design can handle both 200 mm and 300 mm wafers, and supports special wafer handling including warped and translucent wafers. The unique process chamber architecture can accommodate technical requirements across multiple technology nodes for the most demanding device manufacturers in the industry.
    문서

    문서 없음

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    MATTSON ASPEN III

    MATTSON

    ASPEN III

    Dry / Plasma Etch빈티지: 2006조건: 개조됨마지막 검증일:30일 이상 전
    MATTSON ASPEN III

    MATTSON

    ASPEN III

    Dry / Plasma Etch빈티지: 0조건: 부품 도구마지막 검증일:60일 이상 전
    MATTSON ASPEN III

    MATTSON

    ASPEN III

    Dry / Plasma Etch빈티지: 0조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전