설명
C1 Line, A1 Underfloor Storage Facility환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.문서
문서 없음
카테고리
Elipsometry
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
124680
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
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ONTO / RUDOLPH / AUGUST
FOCUS FE VII
카테고리
Elipsometry
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
124680
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
알 수 없음
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
설명
C1 Line, A1 Underfloor Storage Facility환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.문서
문서 없음