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설명
Description Qty MAIN FRAME 1 69*48*53환경 설정
PROGRESS TYPE: METROLOGY COMPONENT : MAINFRAME STAND MONITOROEM 모델 설명
FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.문서
문서 없음
카테고리
Elipsometry
마지막 검증일: 30일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
127796
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
1999
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
모두 보기
ONTO / RUDOLPH / AUGUST
FOCUS FE VII
카테고리
Elipsometry
마지막 검증일: 30일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
127796
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
1999
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
설명
Description Qty MAIN FRAME 1 69*48*53환경 설정
PROGRESS TYPE: METROLOGY COMPONENT : MAINFRAME STAND MONITOROEM 모델 설명
FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.문서
문서 없음