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NIKON FX-601F
    설명
    Stepper
    환경 설정
    환경 설정 없음
    OEM 모델 설명
    Resolution: ≦ 2.4 µm (isolated pattern), ≦ 3 µm (L/S) Projection magnification: 1:1.25 Exposure field: 120 mm square to 98.78 (H) × 138 (V) mm (≦ ø169.71 mm) Reticle size: 6-in. (0.25-in. thickness) Maximum plate size: 550 × 650 mm Overlay: ≦ 0.5 µm (EGA, |M| + 3σ)
    문서

    문서 없음

    NIKON

    FX-601F

    verified-listing-icon

    검증됨

    카테고리
    Lithography

    마지막 검증일: 60일 이상 전

    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Used


    작동 상태:

    알 수 없음


    제품 ID:

    61726


    웨이퍼 사이즈:

    알 수 없음


    빈티지:

    1999


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    유사 등재물
    모두 보기
    NIKON FX-601F

    NIKON

    FX-601F

    Lithography
    빈티지: 0조건: 중고
    마지막 검증일60일 이상 전

    NIKON

    FX-601F

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    Lithography
    마지막 검증일: 60일 이상 전
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    Used


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    알 수 없음


    제품 ID:

    61726


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    빈티지:

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    Resolution: ≦ 2.4 µm (isolated pattern), ≦ 3 µm (L/S) Projection magnification: 1:1.25 Exposure field: 120 mm square to 98.78 (H) × 138 (V) mm (≦ ø169.71 mm) Reticle size: 6-in. (0.25-in. thickness) Maximum plate size: 550 × 650 mm Overlay: ≦ 0.5 µm (EGA, |M| + 3σ)
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    NIKON FX-601F

    NIKON

    FX-601F

    Lithography빈티지: 0조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전
    NIKON FX-601F

    NIKON

    FX-601F

    Lithography빈티지: 1999조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전