
설명
AMEC PD5 MOCVD환경 설정
System Configuration: ▪ Process Application: GaN Epitaxy ▪ Vintage: Oct 2020 ▪ Wafer Type: 11x4”, 6x6”, 3x8” GaN on Silicon/SiC ▪ Transfer Module: Yes, able to support up to 4 chambers ▪ Pump: Edwards iXH645H ▪ Chiller: SMC ▪ MFCs Type: Horiba ▪ MO Configuration: TMGa1/2, TMAl1/2, TEGa, Cp2Fe, TMIn, Cp2Mg ▪ Doping Source: 2x External Dopant inlet ▪ Inline Purifiers: H2, N2, NH3 ▪ Dew Point Sensor: H2, N2 Process Startup: ▪ Process demonstration for Breakdown Voltage >650V ▪ 650V HEMT recipe will be providedOEM 모델 설명
MOCVD system for production of GaN power devices문서
카테고리
MOCVD
마지막 검증일: 12일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
139498
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
2020
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
모두 보기ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC. CHINA (AMEC)
Prismo PD5
카테고리
MOCVD
마지막 검증일: 12일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
139498
웨이퍼 사이즈:
알 수 없음
빈티지:
2020
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available