
설명
Asset Description - 193nm Immersion scanner Software Version - 5.1 CIM - secs Process - 40/45nm환경 설정
ASML XT1900Gi TEL Lithius Pro IOEM 모델 설명
The TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan system is a high-productivity, dual-stage immersion lithography tool designed for volume 300-mm wafer production at 45-nm resolution and below.문서
카테고리
Steppers & Scanners
마지막 검증일: 7일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
Installed / Running
제품 ID:
146139
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2008
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
모두 보기ASML
TWINSCAN XT:1900Gi
카테고리
Steppers & Scanners
마지막 검증일: 7일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
Installed / Running
제품 ID:
146139
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2008
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available