설명
90nm KrF Scanner환경 설정
Uniformity(1.811%), Intensity(24299.68W/m2), 6" Reticle Inline((R->L), Cymer Laser(ELS-7310). Fab out (Jan. 2019)OEM 모델 설명
KrF photolithography system supports high-volume manufacturing of semiconductor devices. The ES6a scanning stepper utilizes Canon’s Advanced Flexible Illumination System (AFIS) to resolve 90 nanometer features.문서
문서 없음
CANON
FPA-6000ES6a
검증됨
카테고리
Steppers & Scanners
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
95106
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2007
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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FPA-6000ES6a
카테고리
Steppers & Scanners
마지막 검증일: 60일 이상 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
95106
웨이퍼 사이즈:
12"/300mm
빈티지:
2007
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90nm KrF Scanner환경 설정
Uniformity(1.811%), Intensity(24299.68W/m2), 6" Reticle Inline((R->L), Cymer Laser(ELS-7310). Fab out (Jan. 2019)OEM 모델 설명
KrF photolithography system supports high-volume manufacturing of semiconductor devices. The ES6a scanning stepper utilizes Canon’s Advanced Flexible Illumination System (AFIS) to resolve 90 nanometer features.문서
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