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STS MULTIPLEX ICP
    설명
    설명 없음
    환경 설정
    STS, MULTIPLEX ICP-DRIE
    OEM 모델 설명
    The STS MULTIPLEX ICP is an etch system. The STS MULTIPLEX ICP can be used with 2” wafer sizes. It has a silicon material plate and ASE polymer system processer.
    문서

    문서 없음

    STS

    MULTIPLEX ICP

    verified-listing-icon

    검증됨

    카테고리
    Dry / Plasma Etch

    마지막 검증일: 60일 이상 전

    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Used


    작동 상태:

    Deinstalled


    제품 ID:

    110312


    웨이퍼 사이즈:

    알 수 없음


    빈티지:

    알 수 없음


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    유사 등재물
    모두 보기
    STS MULTIPLEX ICP

    STS

    MULTIPLEX ICP

    Dry / Plasma Etch
    빈티지: 0조건: 중고
    마지막 검증일30일 이상 전

    STS

    MULTIPLEX ICP

    verified-listing-icon
    검증됨
    카테고리
    Dry / Plasma Etch
    마지막 검증일: 60일 이상 전
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    주요 품목 세부 정보

    조건:

    Used


    작동 상태:

    Deinstalled


    제품 ID:

    110312


    웨이퍼 사이즈:

    알 수 없음


    빈티지:

    알 수 없음


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    설명
    설명 없음
    환경 설정
    STS, MULTIPLEX ICP-DRIE
    OEM 모델 설명
    The STS MULTIPLEX ICP is an etch system. The STS MULTIPLEX ICP can be used with 2” wafer sizes. It has a silicon material plate and ASE polymer system processer.
    문서

    문서 없음

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    모두 보기
    STS MULTIPLEX ICP

    STS

    MULTIPLEX ICP

    Dry / Plasma Etch빈티지: 0조건: 중고마지막 검증일:30일 이상 전
    STS MULTIPLEX ICP

    STS

    MULTIPLEX ICP

    Dry / Plasma Etch빈티지: 2001조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전
    STS MULTIPLEX ICP

    STS

    MULTIPLEX ICP

    Dry / Plasma Etch빈티지: 0조건: 중고마지막 검증일:60일 이상 전