설명
Miissing parts: Process Kits , Pyrometer Upper Wafer Size Range Minimum 200 mm Maximum 200 mm Set Size 200 mm Number of Chambers 2 Other Information Conversion June 2007 SPU to EPI System Exterior Dimensions Width 79.528 in (202.0 cm) Depth 81.496 in (207.0 cm) Height 95.669 in (243.0 cm) Weight 5,291 lb (2,400 kg)환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
Applied Centura RP (reduced pressure) Epi systems.문서
문서 없음
카테고리
Epitaxial deposition (EPI)
마지막 검증일: 4일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
147415
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
1996
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
유사 등재물
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA RP EPI
카테고리
Epitaxial deposition (EPI)
마지막 검증일: 4일 전
주요 품목 세부 정보
조건:
Used
작동 상태:
알 수 없음
제품 ID:
147415
웨이퍼 사이즈:
8"/200mm
빈티지:
1996
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
설명
Miissing parts: Process Kits , Pyrometer Upper Wafer Size Range Minimum 200 mm Maximum 200 mm Set Size 200 mm Number of Chambers 2 Other Information Conversion June 2007 SPU to EPI System Exterior Dimensions Width 79.528 in (202.0 cm) Depth 81.496 in (207.0 cm) Height 95.669 in (243.0 cm) Weight 5,291 lb (2,400 kg)환경 설정
환경 설정 없음OEM 모델 설명
Applied Centura RP (reduced pressure) Epi systems.문서
문서 없음